Normal view MARC view ISBD view

Étude et synthèse de résines positives sensibles aux électrons et aux rayons X utilisées dans les procédés de microlithographie /

Serre, Brigitte

Étude et synthèse de résines positives sensibles aux électrons et aux rayons X utilisées dans les procédés de microlithographie / [par] Brigitte Serre. - [Montpellier, 1984].

Subjects--Index Terms: ქიმია ფიზიკური ქიმია მიკროლითოგრაფია პოლიმერები თეზისები დისერტაციები

Place hold
Print
Add to your cart (remove)
Suggest for purchase
Save record
BIBTEX Dublin Core ISBD MARC (non-Unicode/MARC-8) MARCXML MODS (XML) RIS MARC (Unicode/UTF-8) MARC (Unicode/UTF-8, Standard)
More searches

Search for this title in:
Other Libraries (WorldCat) Other Databases (Google Scholar) Online Stores (Bookfinder.com) CERL Thesaurus author search Author search in ORCID registry Wikipedia author search ავტორის ძიება ეროვნ. ბიბლიოთეკაში (NPLG) VIVO beta search for author საქპატენტი. გამოგონების ძიება ძიება თსუს ბიბლიოთეკებში

National Science Library of Georgia

Étude et synthèse de résines positives sensibles aux électrons et aux rayons X utilisées dans les procédés de microlithographie /