ხერხი და მოწყობილობა დაბალი სისუფთავის სილიკონის მასალის გასასუფთავებლად დომინიკ ლებლანი, რენე ბოისვერტი.
Material type:
TextLanguage: ge ქ. მცხეთა: საქპატენტი, პატენტის გამოქვეყ.თარიღი და ბიულეტენის ნომერი (45): 2011 03 10 # 5Description: გამოგონებაზე პატენტის სრული ტექსტი - 30 გვ. ; მუხლი: 5 დამოუკიდებელი; 18 დამოკიდებული; ცხრილი: 4; ფიგურა: 7Patent information: 5178 , B, 2011-03-10, published, SakpatentiOther title: - = PROCESS AND APPARATUS FOR PURIFYING LOW-GRADE SILICON MATERIAL : გამოგონების პატენტი = Patent for invention : (11) GE P 2011 5178 B : (51) C 01 B 33/037 (IPC, 2006)
- C01B33/037;
- C01B33/02;
- C01B33/12;
- C30B29/06;
- F27B7/06
| Item type | Current library | Call number | Copy number | Status | Date due | Barcode | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
პატენტები
|
ეროვნული სამეცნიერო ბიბლიოთეკა 1 საცავი. 1 კორპ. | C01B33/037 (Browse shelf(Opens below)) | P 2011 5178 B | Not for loan | 2015-5860 |
Browsing ეროვნული სამეცნიერო ბიბლიოთეკა 1 shelves, Shelving location: საცავი. 1 კორპ. Close shelf browser (Hides shelf browser)
- პატენტის სრული აღწერილობისა და ტექსტის მოსანახად ქართულ ენაზე დააწკაპეთ მარჯვენა მხარეს ბმულზე „სხვა ძიებები“ და შემდეგ საქპატენტის შესაბამის ბმულზე.
ხერხი ითვალისწინებს დაბალი სისუფთავის სილიკონის მასალის გასუფთავებას ჟანგბადსათბობის სანთურით და მბრუნავი დოლურა ღუმლით აღჭურვილ სადნობ აპარატში, სადაც მიმდინარეობს სილიკონის მასალის დნობა, უმაღლესი სისუფთავის სილიკონის მასალის მისაღებად.
There are no comments on this title.