ხერხი და მოწყობილობა დაბალი სისუფთავის სილიკონის მასალის გასასუფთავებლად 
 = PROCESS AND APPARATUS FOR PURIFYING LOW-GRADE SILICON MATERIAL  : გამოგონების პატენტი = Patent for invention : (11) GE P 2011 5178 B : (51) C 01 B 33/037 (IPC, 2006) / 
დომინიკ ლებლანი, რენე ბოისვერტი.  
 - ქ. მცხეთა:  საქპატენტი,  პატენტის გამოქვეყ.თარიღი და ბიულეტენის ნომერი (45): 2011 03 10 # 5. 
 - გამოგონებაზე პატენტის სრული ტექსტი - 30 გვ. ;  მუხლი: 5 დამოუკიდებელი; 18 დამოკიდებული; ცხრილი: 4; ფიგურა: 7. 
<br/><br/> - პატენტის სრული აღწერილობისა და ტექსტის მოსანახად ქართულ ენაზე დააწკაპეთ მარჯვენა მხარეს ბმულზე „სხვა ძიებები“ და შემდეგ საქპატენტის შესაბამის ბმულზე. 
<br/><br/> ხერხი ითვალისწინებს დაბალი სისუფთავის სილიკონის მასალის გასუფთავებას ჟანგბადსათბობის სანთურით და მბრუნავი დოლურა ღუმლით აღჭურვილ სადნობ აპარატში, სადაც მიმდინარეობს სილიკონის მასალის დნობა, უმაღლესი სისუფთავის სილიკონის მასალის მისაღებად. 
<br/><br/><label>Patent No.: </label>5178	  ge  B  2011-03-10  published  Sakpatenti 
<br/><br/><label>Subjects--Index Terms: </label>გასუფთავება სილიკონი