03181nam a22003137a 4500 Ge_NSL 20191221223408.0 150424t2011 ge ||||| j 00| 0 geo d 5178 ge B 2011-03-10 published Sakpatenti ge C01B33/037; C01B33/02; C01B33/12; C30B29/06; F27B7/06 ხერხი და მოწყობილობა დაბალი სისუფთავის სილიკონის მასალის გასასუფთავებლად დომინიკ ლებლანი, რენე ბოისვერტი. = PROCESS AND APPARATUS FOR PURIFYING LOW-GRADE SILICON MATERIAL : გამოგონების პატენტი = Patent for invention : (11) GE P 2011 5178 B : (51) C 01 B 33/037 (IPC, 2006) / ქ. მცხეთა: საქპატენტი, პატენტის გამოქვეყ.თარიღი და ბიულეტენის ნომერი (45): 2011 03 10 # 5. გამოგონებაზე პატენტის სრული ტექსტი - 30 გვ. ; მუხლი: 5 დამოუკიდებელი; 18 დამოკიდებული; ცხრილი: 4; ფიგურა: 7. - პატენტის სრული აღწერილობისა და ტექსტის მოსანახად ქართულ ენაზე დააწკაპეთ მარჯვენა მხარეს ბმულზე „სხვა ძიებები“ და შემდეგ საქპატენტის შესაბამის ბმულზე. ხერხი ითვალისწინებს დაბალი სისუფთავის სილიკონის მასალის გასუფთავებას ჟანგბადსათბობის სანთურით და მბრუნავი დოლურა ღუმლით აღჭურვილ სადნობ აპარატში, სადაც მიმდინარეობს სილიკონის მასალის დნობა, უმაღლესი სისუფთავის სილიკონის მასალის მისაღებად. გასუფთავება სილიკონი ლებლანი, დომინიკ (CA) გამომგონებელი 40010 ბოისვერტი, რენე (CA) გამომგონებელი 40011 32583 საქართველოს ინტელექტუალური საკუთრების ეროვნული ცენტრი - საქპატენტი http://www.sakpatenti.gov.ge/ka/search_engine/search/1/ Search patent description for inventions here udc PT 0 0 udc 0 0 CPL CPL GEN 2015-04-24 0 C01B33/037 2015-5860 2015-04-24 00:00:00 P 2011 5178 B 2015-04-24 PT 21642 21642