| 000 | 03576nam a22003377a 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 003 | Ge_NSL | ||
| 005 | 20191221223832.0 | ||
| 008 | 150914t2001 ge ||||| j 00| 0 geo d | ||
| 013 |
_a2594 _bge _cB _d2001-06-11 _epublished _fSakpatenti |
||
| 041 | _age | ||
| 084 | _aH01L21/00 | ||
| 084 | _aH01L21/108 | ||
| 084 | _aH01L21/22 | ||
| 245 |
_aნახევარგამტარული ხელსაწყოების დამზადების ხერხი _cირაკლი ნახუცრიშვილი, დავით ჯიშიაშვილი, ვალერიან გობრონიძე, ზეინაბ შიოლაშვილი. |
||
| 246 |
_a= Method for Production of Semiconductor Devices _b : გამოგონების პატენტი = Patent for invention : (11) GE P 2001 2594 B : (51) H 01 L 21/00 (IPC, 2006) / |
||
| 264 |
_aქ. მცხეთა : _bსაქპატენტი, _cპატენტის გამოქვეყ.თარიღი და ბიულეტენის ნომერი (45): 2001 11 26 # 21. |
||
| 300 | _aგამოგონებაზე პატენტის სრული ტექსტი - 5 გვ. ; | ||
| 500 | _a - პატენტის სრული აღწერილობისა და ტექსტის მოსანახად ქართულ ენაზე დააწკაპეთ მარჯვენა მხარეს ბმულზე „სხვა ძიებები“ და შემდეგ საქპატენტის შესაბამის ბმულზე. | ||
| 520 | _a1. ტექნიკური შედეგი ტექნოლოგიური პროცესის გაუმჯობესება. 2. არსი ხერხი ითვალისწინებს AIII BV ტიპის ნახევარგამტარის ზედაპირზე გერმანიუმის დიფუზიის წყაროს წარმოქმნას გერმანიუმის სამიზნის დაბალტემპერატურული იონურ-პლაზმური გაფრქვევით. მოყვანილია ტექნოლოგიური რეჟიმის პარამეტრები. 3. გამოყენების სფერო ნახევარგამტარული ტექნიკა. | ||
| 653 | _aტექნიკა | ||
| 653 | _aნახევარგამტარული | ||
| 653 | _aხელსაწყო | ||
| 653 | _aდამზადების ხერხი | ||
| 700 |
_aნახუცრიშვილი, ირაკლი _cგამომგონებელი _937194 |
||
| 700 |
_a ჯიშიაშვილი, დავით _cგამომგონებელი _940825 |
||
| 700 |
_a გობრონიძე, ვალერიან _cგამომგონებელი |
||
| 700 |
_a შიოლაშვილი, ზეინაბ _cგამომგონებელი _942224 |
||
| 710 |
_932583 _aსაქართველოს ინტელექტუალური საკუთრების ეროვნული ცენტრი - საქპატენტი |
||
| 856 |
_uhttp://www.sakpatenti.gov.ge/ka/search_engine/search/1/ _ySearch patent description for inventions here |
||
| 942 |
_2udc _cPT |
||
| 999 |
_c26729 _d26729 |
||